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武汉市知识产权局关于办理2014年 专利与集成电路布图设计资助工作的通知

 各有关单位、权利人: 

    为了充分发挥武汉市知识产权发展专项资金对自主创新的引导和促进作用,加快推进武汉国家创新中心建设,鼓励我市创新主体获取发明专利权和登记集成电路布图设计专有权,优化专利结构,提升我市知识产权拥有量和核心竞争力,根据《国家知识产权局关于规范专利申请行为的若干规定》、《武汉市知识产权发展专项资金使用管理办法》及相关文件规定,现就办理2014年专利与集成电路布图设计资助工作有关事宜通知如下: 
    一、申报范围及资助标准 

   (一)申请人为单位
    1、2014年1月1日以后,申请人经合法经营的专利代理机构代理,向国家知识产权局专利局提出发明专利实质性审查并缴纳实审费后,每件资助2000元。发明专利获得授权后,每件再资助3000元。

    未通过专利代理机构代理,自行提出发明专利申请并缴纳实审费的,每件资助1000元。发明专利授权后,每件再资助4000元。

2、2014年1月1日以前向国家知识产权局专利局提出发明专利申请,并于2014年获得授权的,延续2013年资助政策,每件最高资助5000元。2014年1月1日以后获得中国实用新型或者外观设计专利证书的,每件资助300元; 

单位获得港澳台地区专利权的,参照上述标准予以资助。

各单位当年获得中国专利授权资助总额原则上最高不超过150万元。 
    对2014年中国发明专利申请量高于600件且发明专利授权量高于400件的单位,每家单位最高资助不超过200万元。 

3、2014年1月1日以后获得国家知识产权局颁发的集成电路布图设计登记证书的,每项资助1000元; 

4、2014年1月1日以后获得授权证书的外国专利,资助标准参照企业为获得外国专利所实际支出的官费和代理费执行。企业获得北美发达国家、欧盟发达国家和日本发明专利权的,每件最高资助10万元;获得上述国家以外其他国家发明专利权的,每件最高资助3万元(具体资助标准见附件1)。

各单位当年获得外国专利授权资助总额原则上最高不超过100万元。

    5、专项资助

(1)中国发明专利维持年费资助:对技术前瞻性强、具有良好市场前景的单位的发明专利因缺乏经费原因拟停止缴纳专利维持年费的,经专利权人申报、市知识产权局组织评审通过后,可给予在未来一定年限内缴纳专利维持年费的资助。 

(2)战略性新兴产业领域发明专利申请费资助:对市政府确定的我市战略性新兴产业领域重点企业及与市政府共建相关技术研究院的高校所提出的相关发明专利申请,经申请人申报、市知识产权局组织评审通过后,可给予申请阶段费用全额资助。

    (3)市重点支持发展项目专利申请费资助:对属于市重点支持发展的项目(包括产业集聚区、文化产业、专利联盟、大学生专利申请等)的专利申请,按相关政策规定,可给予申请阶段费用资助。
   (二)申请人为非职务发明专利权人

2014年1月1日以后,申请人获得中国发明、实用新型或者外观设计专利证书的,每件分别按照1500元、150元和150元资助。
    二、申请条件及相关要求
   (一)申请中国专利资助 
    1、申请人属于登记注册和纳税地均在本市行政区域范围内的单位,或住所地在本市的个人,且申请人向国家知识产权局提交专利申请文件时所留通信地址在本市行政区域范围内。 
    专利申请权或者专利权由个人转移给单位的,按非职务发明的标准予以资助。 
    多个主体共同申请或者获得专利权的,按第一权利人情况对应的标准予以资助。 
    2、本通知发布前已按当年资助政策资助过的专利权,不再予以重复资助。 
   (二)申请外国专利授权资助 
    申请人属于登记注册和纳税地均在本市行政区域范围内的企业,且申请人向国家知识产权局或外国专利局提交专利申请文件时所留通信地址在本市行政区域范围内。 
    办理外国专利资助有关具体要求按照《武汉市外国授权专利资助暂行管理办法》(武知发规字[2014]1号)执行。

(三)申请集成电路布图设计登记资助 
    申请人属于登记注册和纳税地均在本市行政区域范围内的单位,且申请人向国家知识产权局提交集成电路布图设计登记申请文件时所留通信地址在本市行政区域范围内。 

    (四)申请专项资助 

申请人属于登记注册和纳税地均在本市行政区域范围内的单位。且申请人向国家知识产权局提交专利申请文件时所留通信地址在本市行政区域范围内。 
     三、申报材料 

    (一)共性材料:申请人和代办人的身份证明材料(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。
    1、当年首次申请资助经费的企业需提供营业执照、税务登记证等证件的原件(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件);当年首次申请资助经费的事业单位、社会团体需提供事业单位法人证书或社会团体登记证书、组织机构代码证等证件的(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件);当年首次申请资助经费的机关需提供组织机构代码证及编办批复成立文件(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。 
    2、个人需提供身份证或其它有效身份证明(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。 
    3、委托他人办理申请事宜的,需提交授权委托书和代办人身份证明材料(原件1份,拟留件)。 
    4、多个主体共同拥有专利权或者登记集成电路布图设计的,需要出具其他权利人的委托书原件及身份证明材料(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。 
    5、与资助经费支出有关的银行帐户信息与财务凭证。申请人为单位的,需提供银行帐户信息(含帐户名、帐号、开户行、行号等内容)、加盖财务章和单位公章资助经费收款收据(原件1份,拟留件)。 
    6、其他材料。一次性申请资助的专利或者集成电路布图设计超过5件的,需提供专利号或者布图设计登记号电子文档(WORD或EXCEL)。 

    (二)申请人申请专利与集成电路布图设计登记资助经费,还应提交以下材料: 
    1、武汉市专利与集成电路布图设计资助经费申请表纸件(见附件2)(原件1份,拟留件)。 
    2、专利证书或者集成电路布图设计登记证书。(原件1份,拟退件;复印件1份、拟留件)。 
   (三)申请外国专利授权资助,还应提供以下材料: 

    (1)武汉市外国授权专利资助经费申请表(见附件3,原件1份,拟留件)。

(2)外国专利证书和申请受理通知书(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。

    (3)缴纳的外国专利费用收据和国内专利费用收据(申请费、年费、代理费等)(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。

(4)中国专利证书全文本(未授权提供申请书全文本)以及有关保密审查的证明文件(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。
    (5)申请人和代办人的身份证明材料(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。

(6)申请人上年度纳税证明材料。

(7)要求提供的其他材料。
    (四)申请专项资助,还应提交以下材料: 
    1、专项资助申请表纸件(见附件4,原件1份,拟留件)。 
    2、专利申请受理通知书和专利证书原件(原件1份,拟退件;复印件1份,拟留件)。 
    3、要求提供的其他的材料(原件1份,拟留件)。 
     四、申报时间要求 
    申请人在2014年1月1日后获得专利权、集成电路布图设计登记证书的,以及单位在2014年1月1日后提出发明专利申请的,应在获得专利权之日(以专利证书上授权日为准)、获得布图设计登记证书之日(以登记证书上发证日为准)或提出发明专利申请之日起当年11月30日前(含当日)提出资助申请。逾期未提出资助申请的,视为放弃申请资助经费的资格。当年11月30日后提出发明专利申请或者获得专利授权的,可以在下一年提交材料进行办理。 
    五、受理窗口及受理业务方式 
    各单位须首先在武汉知识产权网(网址:www.whipb.gov.cn)进行注册,并通过该网站进行资助申报,并随后提交纸件。 

(一)武汉市知识产权局专利处受理以下业务: 
     1、全市的单位提出的专利和集成电路布图设计资助申请; 
     2、专项资助申请。 
    联系人:康冰娜、丁科、宣炜;联系电话:65692320、65692012(亦传真)、65692322;邮箱:WHIPBZL@163.com。 

(二)武汉市民之家专利技术展示交易中心窗口受理以下业务: 
    全市个人提出的专利资助申请。 
    联系人:黄毅、罗帅;联系电话:65770381、65770132、65770330(传真);邮箱:PATENTCAPITAL@126.com。 
    个人资助受理时间:每周二、四(遇法定休息日则暂停受理)上午9:00至12:00,下午13:30至16:30。 
    六、资助经费支付方式 
   (一)对提交资助申请的单位,市知识产权局定期集中审批后根据其提交的收据和银行帐户信息以财政授权支付的方式支付资助经费。 
   (二)对提交资助申请的个人,市知识产权局审批后以现金或现金支票、银行转账的方式支付资助经费。 
    七、管理要求 
   (一)申请人应确保其提交的申请材料真实有效,不得套取、骗取资助经费。 
   (二)接受资助经费的单位,应加强对资助经费的管理,确保资助经费用于本单位专利、集成电路布图设计的申请(登记)、实施、保护和管理等方面工作,不得挪作他用。 
   (三)接受资助经费的单位,应按照相关规定和要求接受市知识产权局的经费使用情况检查,以及市财政、审计局等相关部门的监督审计。 
   (四)如发现单位、中介机构、个人在申请资助经费过程中,有恶意重复申请或者以其它不正当手段提出申请情形的,市知识产权局可以要求其提交相关材料予以说明,并停止受理或审批其资助申请。同时,追回已拨付的全部资金,并自发现之日起取消其今后三年内申请资助经费的资格;涉嫌犯罪的,依法移交司法机关处理。 
   (五)如发现单位有擅自将资助经费挪作他用行为的,自发现之日起取消其今后三年内申请资助经费的资格。 
   (六)对国家、省、市知识产权局认定为有非正常专利申请行为的单位或个人,自认定之日起取消其今后三年内申请资助经费的资格。 
    八、其它 
   (一)申报资助经费的单位和个人应严格遵守廉政规定,不做任何影响资助办理工作的事情;市知识产权局资助办理工作接受广大市民的监督。廉政监督、投诉电话:65692535(工作时间)、65692009(非工作时间)。 
   (二)省知识产权局授权发明专利奖励资金及其他专项资助工作具体申报要求将另行通知。
   (三)专利公共服务资助相关具体事宜将另行通知。 
   (四)本通知自下发之日起实施,有效期至2014年12月31日。《武汉市知识产权局关于办理2013年专利与集成电路布图设计资助工作的通知》(武知发规字[2013]1号)文件同时废止。 
   (五)本通知由武汉市知识产权局负责解释。 
                        

 

                                   武汉市知识产权局

                                     2014年8月19日

附件1

 

外国专利授权资助标准一览表

 

授权专利类型\授权国别

美国、加拿大、日本、英国、法国、德国、意大利、爱尔兰、荷兰、比利时、西班牙、葡萄牙、瑞典、芬兰、奥地利、丹麦

其他国家和地区

发明专利

10万元

3万元

 附件2 武汉市专利与集成电路布图设计资助经费申请表.doc

附件3 武汉市外国授权专利资助经费申请表.doc

附件4专项资助申请表.doc

来源:武汉市知识产权局网站  武汉专利申请新恒程编辑

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